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        技術(shù)文章

        真空井式坩堝爐詳細(xì)參數(shù)及原理

        技術(shù)文章

        本設(shè)備是由石英坩堝(或氧化鋁陶瓷坩堝)和不銹鋼法蘭組成的真空坩堝爐。主要用于煅燒真空或惰性氣體保護(hù)下的高純度化合物或擴(kuò)散半導(dǎo)體晶片,也可用于烘燒或燒結(jié)陶瓷材料。

        真空井式坩堝爐參數(shù)說明

        型號

        AFD-1200T

        AFD-1400T

        AFD-1700T

        工作溫度

        >1200℃

        >1400℃

        >1700℃

        加熱元件

        電阻絲

        硅碳棒

        硅鉬棒

        熱電偶

        K型

        S型

        B型

        控溫方式

        31段可編程自動控制,PID調(diào)節(jié)控溫度

        升溫速率

        0-10℃

        0-20℃

        控溫度

        ±1℃

        大真空度

        -0.1MPa

        爐膛材料

        氧化鋁陶瓷纖維板

        爐殼

        雙層爐殼,風(fēng)冷結(jié)構(gòu)(爐底安裝兩個(gè)散熱風(fēng)扇),爐殼表面溫度低于60度

        額定功率

        1KW—8KW

        常用爐膛尺寸

        Φ240xH220mm;Φ40xH300mm;Φ60xH300mm;

         Φ80xH300mm;Φ100xH300mm;Φ120xH300mm

        聯(lián)


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