氮氣在真空高溫氣氛爐中的應(yīng)用原理

真空氣氛爐是真空技術(shù)與熱處理技術(shù)相結(jié)合的新型熱處理技術(shù)，真空熱處理所處的真空環(huán)境指的是低于個大氣壓的氣氛環(huán)境，包括低真空、中等真空、高真空，真空熱處理實際也屬于氣氛控制熱處理。真空爐是有嚴(yán)格的真空密封裝置，金屬零件進(jìn)行真空熱處理均在密閉的真空爐內(nèi)進(jìn)行，因此，獲得和維持爐子原定的漏氣率，真空爐的工作真空度，對確保零件真空熱處理的質(zhì)量有著非常重要的意義。真空熱處理是指熱處理工藝的全部和部分在真空狀態(tài)下進(jìn)行的，真空熱處理可以實現(xiàn)幾乎所有的常規(guī)熱處理所能涉及的熱處理工藝，但熱處理質(zhì)量大大提高。與常規(guī)熱處理相比，真空熱處理的同時，可實現(xiàn)無氧化、無脫碳、無滲碳，可去掉工件表面的磷屑，并有脫脂除氣等作用，從而達(dá)到表面光亮凈化的效果。

    氮氣在真空氣氛爐中的應(yīng)用原理主要包含兩個方面，都是利用氮氣的化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定、不活潑性質(zhì)，是在加熱時，特別是在1000℃以上時，為了防止Cr等金屬元素在高的真空度下的揮發(fā)，在抽真空到1~5Pa后回充氮氣，以調(diào)整爐內(nèi)的真空度，防止金屬元素的揮發(fā)；二是在淬火時，為了提高冷卻能力（般來說，真空度越高，無論是空冷還是油冷，則冷卻能力越差），根據(jù)不同的淬火冷卻方法、不同的爐型，而采用回充氮氣，從而選擇在不同的真空度下淬火，以得到不同的淬火烈度。補(bǔ)充：真空爐用氮氣濃度應(yīng)≥99.999%